金属有机化学气相沉淀（MOCVD）晶元工厂通常只是测量石墨盘的单点温度，这虽然有助于加热区域的调整，但是很难获得均匀的温度分布图。

kSA石磨盘温度测量系统可以通过MOCVD（例如Veeco K465i 和EPIK700等）反应腔体上的狭缝式光学窗口，测量整个石墨盘和晶元的温度分布图，大大提高了设备工艺优化的能力。

kSA石磨盘温度测量系统整合了两个高温计扫描探头，可在 2 分钟内从中心到边缘扫描整个石墨盘，同时绘制其温度分布图。您可以选择线扫描和/或全面积的子项组合扫描，来获得石墨盘的温度分布图。接着通过kSA独有软件分析识别有问题的区域。有了这些信息，用户就可以更好地对工艺和硬件进行调整，从而提高产品性能。

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