kSA石磨盘发射率测量系统主要用于：
- 薄膜沉积完成后，检测石墨盘的烘烤质量，判定其是否适合下一次生产使用。
- 定量测定石墨盘真实的表面发射率，合适调节其的烘烤温度。
- 检测石墨盘SiC涂层中是否存在微裂纹和微裂纹的严重程度，确定其是否达到使用寿命。
- 通过检测批次中整个石墨盘辐射率分布的均匀性，来判断其供货商的资质，以及控制新石墨盘的质量。
- 防止金属有机化学气相沉淀（MOCVD）生长过程的浪费。
为金属有机化合物化学气相沉淀（MOCVD）生产环境中的晶圆载体表征打开了定量测量的大门。
kSA Emissometer石磨盘发射率测量系统能快速、便捷的在金属有机化学气相沉积（MOCVD）石墨盘上产生漫反射和镜面反射，从而测量其总辐射率的分布图。石墨盘辐射率分布的变化会引起温度分布不均匀，使得器件良品率下降，甚至导致整个生产过程被浪费。使用kSA Emissometer石磨盘发射率测量系统，可实时通过辐射率变化跟踪石墨盘的使用情况，以便确定其使用寿命，防止由此引起无效生产。kSA Emissometer也可以检测石墨盘烘烤后的残余物，同时识别其表面人眼不可见的缺陷、划痕、裂纹和凹坑。
产品信息
产品相关视频
© 2024 k-Space 中国