脉冲激光沉积（PLD）是将高功率脉冲激光束聚焦于真空室内的源靶上形成蒸汽来制备薄膜的一种物理气相沉积（PVD）技术。在这一过程中，通过高功率激光束汽化的材料随后以薄膜的形式沉积在基片上（如硅片）。该技术可以在超高真空环境中或背景气体（如氧气）存在的情况下进行，后者常用于沉积氧化物材料的过程。