电子束蒸发是在高真空中利用高能电子束轰击靶材，使得靶材被加热气化，将原子或分子扩散到基片上，然后在基片冷凝沉积形成薄膜。与溅射或脉冲激光沉积（PLD）一样，可通过选择合适检测设备，获得与表面薄膜特性相关的重要实时信息。