在薄膜生长过程中，薄膜应力和应变会实时产生并演化，这严重影响了薄膜的性能和可靠性。k-Space 提供四种基于kSA MOS 光学技术的薄膜应力和应变测量系统。kSA MOS可用于分子束外延（MBE）、溅射、脉冲激光沉积 （PLD）、电子束蒸发和热加工热处理等薄膜沉积过程中的实时原位薄膜应力测量。kSA ICE用于金属有机化学气相沉积（MOCVD）薄膜生长过程中薄膜应力的实时原位测量，而kSA MOS UltraScan和kSA MOS ThermalScan则是用于晶圆、镜片、玻璃等衬底上薄膜应力的非原位测量。